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通过施加电流实现原子力显微镜纳米沉积的方法
其他题名Method for achieving atomic force microscope (AFM) nano deposition by applying current
焦念东; 刘增磊; 刘连庆
所属部门机器人学研究室
专利权人中国科学院沈阳自动化研究所
专利代理人沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002
授权国家中国
专利类型发明
专利状态驳回
摘要本发明公开一种通过施加电流实现原子力显微镜(AFM)纳米沉积的方法,即通过向AFM针尖和基底施加一定电流并控制电流的大小,实现AFM导电探针上的原子沉积到基底上,形成导体沉积点,该沉积点可用于纳米点阵结构的加工及纳米器件中对纳米材料的焊接。本发明不但可以加工出重复性好、精度高的沉积点,而且可以灵活的控制沉积点的大小。并且本发明的方法还可以用来加工纳米线。
其他摘要The invention discloses a method for achieving atomic force microscope (AFM) nano deposition by applying a current. According to the method, by means of application of the certain current onto an AFM pinpoint and substrate and control of the magnitude of the current, atoms on an AFM conducting probe are deposited on the substrate to form a conductor deposition point, and the conductor deposition point can be used for processing a nano lattice structure and welding nano materials in a nano device. By means of the method for achieving AFM nano deposition by applying the current, the deposition point with good repeatability and high precision can be processed, and meanwhile, the size of the deposition point can be flexibly controlled; the method can be used for processing nanowires.
PCT属性
申请日期2012-12-19
2014-06-25
申请号CN201210555839.2
公开(公告)号CN103879955A
语种中文
产权排序1
文献类型专利
条目标识符http://ir.sia.cn/handle/173321/15015
专题机器人学研究室
作者单位中国科学院沈阳自动化研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
焦念东,刘增磊,刘连庆. 通过施加电流实现原子力显微镜纳米沉积的方法[P]. 2014-06-25.
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