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影响激光近净成形残余应力的关键参数的多元回归分析
其他题名Multiple Regression Analysis of the Key Parameters of Laser Engineering Net Shaping on Residual Stress
王福雨; 赵吉宾; 赵宇辉; 王志国; 来佑彬; 龙雨; 刘伟军
作者部门装备制造技术研究室
关键词激光光学 多元回归方程 有限元分析 激光近净成形
发表期刊激光与光电子学进展
ISSN1006-4125
2015
卷号52期号:1页码:138-145
收录类别CSCD
CSCD记录号CSCD:5347177
产权排序1
资助机构“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项(2013ZX04001-041)
摘要激光近净成形的激光功率、扫描速度和分层高度是成形的关键参数。掌握关键参数与影响成形质量和变形的残余应力的关系是降低残余应力与选择合适成形参数的有效途径。利用生死单元技术对钛合金激光近净成形过程进行热力耦合数值求解,得到8组不同关键参数情况下有限元模型的残余应力分布云图,并对顶层三个位置的残余应力进行采样。对不同参数与残余应力做多元回归分析,得到多元回归方程。通过有限元分析和实验验证多元回归方程的正确性,证明多元回归方法是减少不同参数下成形件残余应力的预测与实验时间、对既定参数残余应力评估的有效方法。
其他摘要Key forming parameters of laser engineering net shaping are laser power, scanning speed and stratification height. The relationship between the key parameters and residual stress must be mastered, because the residual stress influences the forming quality and deformation. Mastering the relationship is an effective way to reduce residual stress and to choose forming parameters. Using the life and death element technology and thermo-mechanical coupled field model, 8 groups of different key parameters of the laser engineering net shaping of titanium alloy are computed. The distribution cloud of the residual stress is obtained and three samples are selected. Through the multivariate regression of different key parameters and the residual stress, the multiple regression equation is obtained. The validity of the multiple regression equation is proved by finite element analysis and experiment. The multiple regression analysis is the effective way to reduce the time of simulation and experience of the different key parameters and to estimate the residual stress of the established parameters.
语种中文
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被引频次:1[CSCD]   [CSCD记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.sia.cn/handle/173321/15737
专题装备制造技术研究室
作者单位1.中国科学院沈阳自动化研究所
2.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王福雨,赵吉宾,赵宇辉,等. 影响激光近净成形残余应力的关键参数的多元回归分析[J]. 激光与光电子学进展,2015,52(1):138-145.
APA 王福雨.,赵吉宾.,赵宇辉.,王志国.,来佑彬.,...&刘伟军.(2015).影响激光近净成形残余应力的关键参数的多元回归分析.激光与光电子学进展,52(1),138-145.
MLA 王福雨,et al."影响激光近净成形残余应力的关键参数的多元回归分析".激光与光电子学进展 52.1(2015):138-145.
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