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一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法
赵怀慈; 李波; 刘明第; 孙士洁; 吕进锋
所属部门光电信息技术研究室
专利权人中国科学院沈阳自动化研究所
专利代理人沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002
授权国家中国
专利类型发明
专利状态实审
摘要本发明涉及计算机仿真领域,具体的说是一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法。本发明包括以下步骤:确定场景中与辐射相关的参数;根据目标自身表面温度计算目标的自身辐射;根据太阳参数和目标表面反射率计算目标对太阳辐射的反射;计算目标对相邻建筑自身辐射的反射;计算目标对相邻建筑对太阳辐射的反射:依据太阳参数和大气环境参数计算目标的辐射影响。本发明能够有效地处理高光谱仿真中相邻物体对于目标的辐射影响,提高了仿真逼真度。
PCT属性
申请日期2016-06-27
2018-01-05
申请号CN201610473416.4
公开(公告)号CN107545082A
语种中文
产权排序1
文献类型专利
条目标识符http://ir.sia.cn/handle/173321/21656
专题光电信息技术研究室
作者单位中国科学院沈阳自动化研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵怀慈,李波,刘明第,等. 一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法[P]. 2018-01-05.
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