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半导体制造过程R2R控制方法研究进展 期刊论文
现代制造工程, 2013, 期号: 3, 页码: 4-10,99
Authors:  王亮;  胡静涛;  王志艳
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半导体制造  过程控制  R2r控制方法  指数加权移动平均  预测控制  
CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究 学位论文
博士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012
Authors:  王亮
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半导体制造  化学机械研磨  Run-to-run控制  预测控制  过程控制  
基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488
Authors:  王亮;  胡静涛
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光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法  
基于LS-SVM模型和扰动估计的光刻过程智能R2R预测控制 期刊论文
计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: 2124-2126, 2142
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(451Kb)  |  Favorite  |  View/Download:520/135  |  Submit date:2012/12/28
光刻过程  最小二乘支持向量机  扰动估计  Run-to-run控制  预测控制  克隆选择  
面向胰岛素微量测定的微流控系统研究 学位论文
博士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2011
Authors:  詹志坤
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微流控系统  免疫定量  微泵  微混合器  胰岛素检测  
光刻过程RtR控制方法研究进展分析 期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 199-205
Authors:  王亮;  胡静涛
Adobe PDF(359Kb)  |  Favorite  |  View/Download:589/195  |  Submit date:2012/05/29
半导体制造业  光刻过程  Rtr控制  过程控制  模型预测控制  多变量控制器  控制方法  研究进展  关键尺寸  过程建模