SIA OpenIR

Browse/Search Results:  1-8 of 8 Help

Selected(0)Clear Items/Page:    Sort:
半导体制造过程R2R控制方法研究进展 期刊论文
现代制造工程, 2013, 期号: 3, 页码: 4-10,99
Authors:  王亮;  胡静涛;  王志艳
View  |  Adobe PDF(661Kb)  |  Favorite  |  View/Download:366/72  |  Submit date:2013/10/05
半导体制造  过程控制  R2r控制方法  指数加权移动平均  预测控制  
CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究 学位论文
博士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012
Authors:  王亮
Adobe PDF(1410Kb)  |  Favorite  |  View/Download:742/16  |  Submit date:2012/07/27
半导体制造  化学机械研磨  Run-to-run控制  预测控制  过程控制  
面向半导体设备的Interface A通信技术研究与开发 学位论文
硕士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012
Authors:  叶家发
Adobe PDF(1232Kb)  |  Favorite  |  View/Download:422/8  |  Submit date:2012/07/27
工厂自动化  Semi  Interface a  设备数据采集  
CMP过程多变量免疫预测R2R控制方法 期刊论文
仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 11, 页码: 2586-2593
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(1553Kb)  |  Favorite  |  View/Download:481/96  |  Submit date:2012/12/28
化学机械研磨  R2r控制  最小二乘支持向量机  贝叶斯证据框架  克隆选择  预测控制  
基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(523Kb)  |  Favorite  |  View/Download:483/161  |  Submit date:2012/10/24
光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法  
基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制 期刊论文
仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 306-314
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(720Kb)  |  Favorite  |  View/Download:592/147  |  Submit date:2012/10/24
化学机械研磨  灰色模型  克隆选择  预测控制  Run-to-run控制  
基于神经网络的CMP过程智能R2R预测控制 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 4, 页码: 305-311
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(1771Kb)  |  Favorite  |  View/Download:523/145  |  Submit date:2012/10/24
化学机械研磨  径向基函数神经网络  预测控制  批次控制  微粒群滚动优化  
光刻过程RtR控制方法研究进展分析 期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 199-205
Authors:  王亮;  胡静涛
Adobe PDF(359Kb)  |  Favorite  |  View/Download:590/196  |  Submit date:2012/05/29
半导体制造业  光刻过程  Rtr控制  过程控制  模型预测控制  多变量控制器  控制方法  研究进展  关键尺寸  过程建模