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基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488
Authors:  王亮;  胡静涛
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光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法  
光刻过程RtR控制方法研究进展分析 期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 199-205
Authors:  王亮;  胡静涛
Adobe PDF(359Kb)  |  Favorite  |  View/Download:590/196  |  Submit date:2012/05/29
半导体制造业  光刻过程  Rtr控制  过程控制  模型预测控制  多变量控制器  控制方法  研究进展  关键尺寸  过程建模