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面向半导体制造设备的数据采集实现方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN103491059A, 公开日期: 2014-01-01,
Inventors:  刘明哲;  徐皑冬;  叶家发;  王亚楠
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半导体制造过程R2R控制方法研究进展 期刊论文
现代制造工程, 2013, 期号: 3, 页码: 4-10,99
Authors:  王亮;  胡静涛;  王志艳
View  |  Adobe PDF(661Kb)  |  Favorite  |  View/Download：366/72  |  Submit date：2013/10/05
半导体制造  过程控制  R2r控制方法  指数加权移动平均  预测控制  
CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究 学位论文
博士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012
Authors:  王亮
Adobe PDF(1410Kb)  |  Favorite  |  View/Download：742/16  |  Submit date：2012/07/27
半导体制造  化学机械研磨  Run-to-run控制  预测控制  过程控制  
面向半导体设备的Interface A通信技术研究与开发 学位论文
硕士, 沈阳: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012
Authors:  叶家发
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工厂自动化  Semi  Interface a  设备数据采集  
CMP过程多变量免疫预测R2R控制方法 期刊论文
仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 11, 页码: 2586-2593
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(1553Kb)  |  Favorite  |  View/Download：481/96  |  Submit date：2012/12/28
化学机械研磨  R2r控制  最小二乘支持向量机  贝叶斯证据框架  克隆选择  预测控制  
面向半导体设备的Interface A通信方法研究 期刊论文
机械设计与制造, 2012, 期号: 5, 页码: 273-275
Authors:  叶家发;  刘明哲
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半导体设备  Interface a  数据采集  工厂自动化  
基于LS-SVM模型和扰动估计的光刻过程智能R2R预测控制 期刊论文
计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: 2124-2126, 2142
Authors:  王亮;  胡静涛
View  |  Adobe PDF(451Kb)  |  Favorite  |  View/Download：520/135  |  Submit date：2012/12/28
光刻过程  最小二乘支持向量机  扰动估计  Run-to-run控制  预测控制  克隆选择  
基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制 期刊论文
仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 306-314
Authors:  王亮;  胡静涛
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化学机械研磨  灰色模型  克隆选择  预测控制  Run-to-run控制  
光刻过程RtR控制方法研究进展分析 期刊论文
半导体技术, 2011, 卷号: 36, 期号: 3, 页码: 199-205
Authors:  王亮;  胡静涛
Adobe PDF(359Kb)  |  Favorite  |  View/Download：589/195  |  Submit date：2012/05/29
半导体制造业  光刻过程  Rtr控制  过程控制  模型预测控制  多变量控制器  控制方法  研究进展  关键尺寸  过程建模