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基于LS-SVM的光刻过程R2R预测控制方法 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 6, 页码: 482-488
Authors:  王亮;  胡静涛
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光刻过程  关键尺寸  最小二乘支持向量机  预测控制  批次控制  微粒群算法  
基于神经网络的CMP过程智能R2R预测控制 期刊论文
半导体技术, 2012, 卷号: 37, 期号: 4, 页码: 305-311
Authors:  王亮;  胡静涛
Adobe PDF(1771Kb)  |  Favorite  |  View/Download:537/147  |  Submit date:2012/10/24
化学机械研磨  径向基函数神经网络  预测控制  批次控制  微粒群滚动优化